溶洞景觀設計公司提到模擬環(huán)境光的更好的方法是，在場景中把低強度的聚光燈或泛光燈放置在合理的位置上。這種類型的輔助光應當減少陰影區(qū)域，并向不能被關鍵光直接照射的下邊和角落補充一些光線。

除了場景中的天然散射光或者環(huán)境光之外，補充光用來照亮太暗的區(qū)域或者強調(diào)場景的一些部位。它們可以放置在關鍵光相對的位置，用以柔化陰影。

   雖然點光源通常放在四分之三的位置上(從物體的正面轉45度，并從中心線向上轉45度，這一位置很多時候被當作定勢使用)，但根據(jù)具體場景的需要，也可來自物體的下面或后面，或者其他任何位置。關鍵光通常是首先放置的光源，并且使用它在場景中創(chuàng)建初步的燈光效果。

   雖然最初的放置為照亮物體提供了一個好的方法，但是，得到的結果確實是單調(diào)而無趣的圖像。陰影通常很粗糙且十分明顯。同樣，場景看起來總是太暗，因為沒有自然的環(huán)境光來加亮陰影區(qū)域。這種情況在特定的場景中是很有用的，例如夜晚場景，但是，對大多數(shù)畫面來說，就顯得有些不合適了。

    當鉆孔至巖洞層時，一般護筒內(nèi)泥漿會悉數(shù)或部分丟失，嚴峻時會形成塌孔，這時可選用片石加粘土(按1：1體積比)回填，巖洞較大時可參加部分水泥，回填一層、選用鉆頭沖擊一遍，盡量使片石和粘土保持密實，直至回填至巖洞頂部1～2m.巖洞回填完成后，向鉆孔內(nèi)注入稠度較大的泥漿，使其天然浸入片石縫隙內(nèi)，然后選用鉆頭沖擊，使片石和粘土擠入巖洞內(nèi)，形成泥石護壁。

　 若巖洞內(nèi)泥石護壁呈現(xiàn)漏漿時，應再次回填，反復回填、反復沖擊，直至不再漏漿停止。

　 選用回填片石、粘土處理巖洞時，鋼護筒須穿透砂礫等透水層、坐在不透水層上，尤其是多層巖洞，以避免呈現(xiàn)巖洞后孔內(nèi)水頭急劇下降而形成坍孔。

 為巖洞景觀設計場景設置燈火今后，還有一些其他要素需要考慮。場景中的燈火與真正的燈火不同，它需要在烘托時刻上多花功夫，燈火設置越雜亂，烘托所花費的時刻越多，燈火辦理也會變得越難。